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rev¨ºtements Paryl¨¨ne sont appliqu¨¦s ¨¤ temp¨¦rature ambiante avec un ¨¦quipement sp¨¦cialis¨¦ de d¨¦p?t sous vide. Le d¨¦p?t de polym¨¨re de Paryl¨¨ne a lieu au niveau mol¨¦culaire, o¨´ les films ? se d¨¦veloppent ? essentiellement une mol¨¦cule ¨¤ la fois.

• Une mati¨¨re premi¨¨re solide et granulaire, appel¨¦e dim¨¨re, est chauff¨¦e sous vide et vaporis¨¦e en un gaz dim¨¨re.
• Le gaz est ensuite trait¨¦ par pyrolyse pour amener le dim¨¨re en sa forme monom¨¨re.
• Dans la chambre de d¨¦p?t ¨¤ temp¨¦rature ambiante, le gaz monom¨¨re se d¨¦pose sur toutes les surfaces sous la forme d’un film polym¨¨re mince et transparent.

Parce que le Paryl¨¨ne est appliqu¨¦ sous forme de gaz, le rev¨ºtement p¨¦n¨¨tre sans effort dans les crevasses et les zones ¨¦troites des composants multicouches, offrant une encapsulation compl¨¨te et uniforme. L’¨¦paisseur optimale des rev¨ºtements polym¨¨res est d¨¦termin¨¦e en fonction de la situation et des propri¨¦t¨¦s de rev¨ºtement souhait¨¦es. Alors que les rev¨ºtements Paryl¨¨ne peuvent varier en ¨¦paisseur de centaines d’angstr?ms ¨¤ plusieurs mils, une ¨¦paisseur typique est de l’ordre de quelques microns.

Variables qui influencent le processus de rev¨ºtement de Paryl¨¨ne

Le processus de d¨¦p?t du Paryl¨¨ne se compose de deux parties g¨¦n¨¦rales – la science, expliqu¨¦e ci-dessus et l’art. L’art du rev¨ºtement Paryl¨¨ne est un niveau d’expertise et de compr¨¦hension d¨¦velopp¨¦ au fil des ann¨¦es qui permet de garantir que les capacit¨¦s de protection et de performance du Paryl¨¨ne soient pleinement et syst¨¦matiquement obtenues. Chez »ÆÉ«ÁñÁ«ÊÓƵ, ? l’art ? comprend une compr¨¦hension et des connaissances approfondies des variables qui peuvent avoir un impact sur les performances du rev¨ºtement et, en fin de compte, sur le succ¨¨s de votre application.

Mat¨¦riau du substrat

L’adh¨¦rence optimale du Paryl¨¨ne ¨¤ une grande vari¨¦t¨¦ de substrats, y compris le m¨¦tal, le plastique, l’¨¦lastom¨¨re, le verre, le papier, etc., est g¨¦n¨¦ralement obtenue par un traitement avec du silane A-174 avant le rev¨ºtement Paryl¨¨ne. Quelques substrats tels que les substrats m¨¦talliques hautement polis et les substrats polym¨¨res, par exemple, cr¨¦¨¦s depuis longtemps des probl¨¨mes d¡¯adh¨¦rence du Paryl¨¨ne. ?tant ¨¤ la pointe du d¨¦veloppement du Paryl¨¨ne, »ÆÉ«ÁñÁ«ÊÓƵ a mis au point de nouvelles technologies afin de favoriser l’adh¨¦rence, qui r¨¦solvent un certain nombre de ces difficult¨¦s.

Propret¨¦ du substrat

Une bonne adh¨¦sion du Paryl¨¨ne ¨¤ un substrat peut ¨ºtre consid¨¦rablement affect¨¦e par la propret¨¦. Les particules, les huiles de fabrication, les huiles humaines et d’autres mat¨¦riaux non consid¨¦r¨¦s comme un composant du substrat, auront un impact sur l’adh¨¦rence, les performances et la fiabilit¨¦ du Paryl¨¨ne. Des processus de pr¨¦-rev¨ºtement aux salles blanches ¨¤ la pointe de l’industrie, »ÆÉ«ÁñÁ«ÊÓƵ a ¨¦tabli des normes et des processus largement accept¨¦s dans ce domaine critique.

Pr¨¦paration du substrat

L’une des caract¨¦ristiques d¨¦terminantes du Paryl¨¨ne est sa capacit¨¦ ¨¤ recouvrir toutes les surfaces, y compris en profondeur dans les multicouches et les crevasses. En cons¨¦quence, toutes les surfaces de la chambre de d¨¦p?t sont recouvertes de Paryl¨¨ne ¨C ¨¤ moins que les techniciens ne prot¨¨gent ou masquent soigneusement les zones qui ne doivent pas ¨ºtre recouvertes. »ÆÉ«ÁñÁ«ÊÓƵ a 50 ans d’exp¨¦rience dans la pr¨¦paration de substrats et du rev¨ºtement, ce qui permet ¨¤ nos ing¨¦nieurs de puiser dans une vaste gamme de techniques de fixation et de masquage pour minimiser les points de contact et ¨¦viter les zones de rev¨ºtement qui doivent rester sans rev¨ºtements.

Processus de rev¨ºtement reproductibles

Gr?ce ¨¤ un personnel hautement qualifi¨¦, ¨¤ des syst¨¨mes de d¨¦p?t ¨¤ la pointe de l’industrie et des syst¨¨mes de gestion de la qualit¨¦ robustes, »ÆÉ«ÁñÁ«ÊÓƵ fournit de mani¨¨re fiable des rev¨ºtements en Paryl¨¨ne qui, en grands volumes de production ou en ¨¦chantillons techniques plus petits, r¨¦pondent aux besoins pr¨¦cis des clients ¨C quand et o¨´ ils en ont besoin.