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Pleins feux sur le rev¨ºtement : Rev¨ºtement multicouches »ÆÉ«ÁñÁ«ÊÓƵ ALD+Paryl¨¨ne
Une technologie plus r¨¦cente chez »ÆÉ«ÁñÁ«ÊÓƵ, ALD+Paryl¨¨ne, combine des d¨¦p?ts de couche atomique (ALD) avec du Paryl¨¨ne pour former un rev¨ºtement multicouche aux meilleures propri¨¦t¨¦s protectrices am¨¦lior¨¦es des appareils dans des environnements extr¨ºmes. Les rev¨ºtements multicouches sont des structures empil¨¦es qui alternent diff¨¦rentes couches de films minces organiques et inorganiques. Les films ALD peuvent ¨ºtre constitu¨¦s de nombreux mat¨¦riaux inorganiques, notamment l’oxyde d’aluminium, l’oxyde de titane et l’oxyde d’hafnium.
La technologie multicouche ALD+Paryl¨¨ne est g¨¦n¨¦r¨¦e par un proc¨¦d¨¦ de d¨¦p?t hybride unique. Plusieurs couches de rev¨ºtement ALD et Paryl¨¨ne sont appliqu¨¦es d’une mani¨¨re qui conduit ¨¤ une croissance des couches tr¨¨s contr?l¨¦e, r¨¦sultant en des ¨¦paisseurs totales allant de 1 ¨¤ 10 microns.
Le Paryl¨¨ne est bien connu pour les nombreuses propri¨¦t¨¦s b¨¦n¨¦fiques qu’il procure aux composants. La combinaison de Paryl¨¨ne organique et d’ALD inorganique am¨¦liore encore les propri¨¦t¨¦s de rev¨ºtement, cr¨¦ant une solution plus robuste. ALD+Paryl¨¨ne conf¨¨re une conformit¨¦ 3D aux composants complexes et miniatures, et offre une protection am¨¦lior¨¦e contre l’eau, la vapeur et les gaz ¨¤ des niveaux ultra-fins. De plus, le rev¨ºtement multicouche poss¨¨de des propri¨¦t¨¦s m¨¦caniques exceptionnelles et une excellente biostabilit¨¦.
ALD+Paryl¨¨ne est une solution id¨¦ale pour les appareils et les syst¨¨mes des march¨¦s de la m¨¦decine, de l’¨¦lectronique, du transport et de l’a¨¦rospatiale qui doivent fonctionner sans d¨¦faillance dans des environnements difficiles ou extr¨ºmes pendant de longues p¨¦riodes. Pour de plus amples informations sur les rev¨ºtements ALD+Paryl¨¨ne et sur la fa?on dont ils peuvent prot¨¦ger vos applications, contactez »ÆÉ«ÁñÁ«ÊÓƵ.
Global Coverage Num¨¦ro 92, ?t¨¦ 2022
